宏朗1500度1600度1700度管式真空气氛炉用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。

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厂商性质：生产厂家
更新时间：2023-11-12
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宏朗1500度1600度1700度管式真空气氛炉宏朗1500度1600度1700度管式真空气氛炉控温准确。高温领域的管式炉，采用刚玉管作为加热和密封的载体，热传递以辐射为主，而刚玉管为不透明的材质，势必阻碍了热传递，经过长期的反复调整管外测温点的位置，使得测温点温度接近于管内实际温度。该款设备广泛应用于各种反应温度在1400℃左右的CVD实验，也可用于真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等研究领域。

技术参数

炉体结构	·采用双层壳体结构，并带有风冷系统，使得壳体表面温度小于60℃
炉体结构	·采用高纯氧化铝作为炉膛材料，大程度的减少热量的损失
大功率	5KW
电源	单相 220V AC, 50/60 Hz (需要40A的空气开关)
额定工作温度	1700ºC (< 1 hour )
连续工作	800~1600ºC
大升降温速率	5ºC / min
加热区长度	457 mm (18")
恒温区	150 mm (6")
加热元件	采用8根1800℃硅钼棒进行加热
温控系统	·采用PID方式通过可控硅来进行温度控制
	·可设置30段升降温程序
	·控制系统带有过热和断偶保护
	·控温精度：± 1 ºC
	·仪器面板上安装有一RS485通讯接口，只要选购一PC控制模块，即可通过电脑来设置升降温程序和导出温度曲线。

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